半導体・FPD製造技術-条件出し／関東のエンジニア転職・求人情報

＜魅力・やりがい＞
・条件出し→立ち上げ監視→移管後の条件最適化まで一気通貫で担当でき、成果が早く見える
・業界最先端技術の開発に携わることができます！

＜働く環境の特徴＞
・当社の先輩エンジニアが多数在籍。アドバイスをもらいやすい環境です
・最寄り駅から徒歩圏内で通勤便利！
・ワンコインで食事が楽しめる社食あり！
・20代、30代、40代が活躍しています！

職場環境
・半導体評価に特化したラボ／分析環境での作業
・SEM/TEM/FIBを用いた断面観察に関する設備が集約
・作業は装置手順・安全手順・記録ルールに沿って実施
・成果物は画像データ＋観察条件＋書類記録（再現確認できる形）
魅力・やりがい
・薄膜化加工後の断面観察をSEM/TEM/FIBで一貫して担当（試作→加工→観察→記録まで）
・FIBの加工条件最適化と、SEM/TEMでの像条件調整をセットで改善できる
・観察結果がそのまま**書類（条件・画像・所見）**として残り、次の開発判断に繋がる
・「見える化（画像取得）」と「書く（記録・レポート）」まで、担当範囲が明確

【キャリアパス】
1年目：フォトリソグラフィ工程の試作実施、レジスト塗布・露光・現像条件の記録、装置操作手順の習得
2年目：不良解析、条件変更による比較評価、DOEを用いた条件出し、歩留まり改善案の立案
3年後：設備条件の標準化、試作計画の主担当、関係部門を巻き込んだ工程確立・改善のリード

【職場環境】
・LNウェハのフォトリソグラフィ試作に特化した環境で、クリーンルーム内での装置操作・条件検証を実施
・製造、設備、品質の各担当と連携し、試作データをもとに条件確立まで一気通貫で進める体制

【魅力、やりがい、身に付くスキル】
・魅力：LNウェハ×フォトリソグラフィの試作製造から設備条件の確立まで担当するため、量産前の工程づくりに深く関われる差別化業務
・やりがい：レジスト塗布、露光、現像、歩留まり不良の解析を自分の手で回し、条件変更の結果が数値で返ってくる業務
・身に付くスキル：フォトリソグラフィ条件設計、設備条件最適化、データ解析、歩留まり改善、工程標準化、関係部門との技術折衝

生産工程の設計を行う、やりがいの大きなお仕事です。

大手半導体メーカーでの就業です。
土日祝休み。ワークライフバランスが実現できます。

当社エンジニアが多数活躍中。アドバイスをもらいやすい環境です。

当社メンバーが多数。アドバイスをもらいやすい環境です。

デバイス設計（回路・レイアウト設計、シミュレーション等）のご経験が活かせます。

大手半導体製造装置メーカーにてプロセス開発業務のご経験が活かせます。