半導体・FPD製造技術-条件出し／関東のエンジニア転職・求人情報

【キャリアパス】
1年目：フォトリソグラフィ工程の試作実施、レジスト塗布・露光・現像条件の記録、装置操作手順の習得
2年目：不良解析、条件変更による比較評価、DOEを用いた条件出し、歩留まり改善案の立案
3年後：設備条件の標準化、試作計画の主担当、関係部門を巻き込んだ工程確立・改善のリード

【職場環境】
・LNウェハのフォトリソグラフィ試作に特化した環境で、クリーンルーム内での装置操作・条件検証を実施
・製造、設備、品質の各担当と連携し、試作データをもとに条件確立まで一気通貫で進める体制

【魅力、やりがい、身に付くスキル】
・魅力：LNウェハ×フォトリソグラフィの試作製造から設備条件の確立まで担当するため、量産前の工程づくりに深く関われる差別化業務
・やりがい：レジスト塗布、露光、現像、歩留まり不良の解析を自分の手で回し、条件変更の結果が数値で返ってくる業務
・身に付くスキル：フォトリソグラフィ条件設計、設備条件最適化、データ解析、歩留まり改善、工程標準化、関係部門との技術折衝

生産工程の設計を行う、やりがいの大きなお仕事です。

大手半導体メーカーでの就業です。
土日祝休み。ワークライフバランスが実現できます。

当社エンジニアが多数活躍中。アドバイスをもらいやすい環境です。

当社メンバーが多数。アドバイスをもらいやすい環境です。

デバイス設計（回路・レイアウト設計、シミュレーション等）のご経験が活かせます。

大手半導体製造装置メーカーにてプロセス開発業務のご経験が活かせます。